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简介
这是光功能高分子材料ppt，包括了光功能高分子材料及其分类，光化学反应原理，光化学反应，二聚过程，衡量光引发剂及光敏剂优劣的标准，光敏涂料特点与分类，概述等内容，欢迎点击下载。
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其中开发比较成熟并有实用价值的感光性高分子材料主要有光致抗蚀材料和光致诱蚀材料，产品包括光刻胶、光固化粘合剂、感光油墨、感光涂料等。 1. 光致抗蚀 目前广泛使用的预涂感光版，就是将感光材料树脂预先涂敷在亲水性的基材上制成的。晒印时，树脂若发生光交联反应，则溶剂显像时未曝光的树脂被溶解，感光部分树脂保留了下来。反之，晒印时若发生光分解反应，则曝光部分的树脂分解成可溶解性物质而溶解。 光刻胶是微电子技术中细微图形加工的关键材料之一。特别是近年来大规模和超大规模集成电路的发展，更是大大促进了光刻胶的研究和应用。 衡量光引发剂及光敏剂优劣的标准 从光化学角度看，衡量两者优劣的主要参数是：三线态能量高低及活性大小。 当光源条件给定时，光引发剂和光敏剂发生作用的要求 具有合适的吸收光谱（与光源匹配否）和消光系数（300-400nm波长范围内，102L/molcm）。 引发量子效率高。 光敏剂、光引发剂及其断裂产物不参与链转移和链终止反应 。 光引发剂和光敏剂应有一定的热稳定性。它们还应与反应体系互溶，无毒，无气味以及不应使反应产物发黄等特性。 感光基团直接连接在高分于主链上，在光作用下激发成活性基团，并进一步形成交联结构的聚合物。 在有机化学中，许多基团具有光学活性，其中以肉桂酰基最为著名。此外，重氮基、叠氮基都可引入高分子形成感光性高分子。 光致变色过程中，变色现象大多与聚合物吸收光后的结构变化有关系。主要包括: ① 键的异裂，如螺吡喃等; ② 键的均裂，如六苯基双脒硅等; ③ 电子转移互变异构，如水杨醛缩苯胺类化合物 ④ 顺反异构，如偶氮化合物等; ⑤ 氧化还原反应，如稠环芳香化合物等; ⑥ 周环化反应，如二芳基乙烯类等。 某些有机化合物的结构以两种官能团异构体互相迅速变换而处于动态平衡的现象。例如：乙酰乙酸乙酯是酮式和烯醇式的平衡混合物： 硫卡巴腙与汞的配合物是分析化学中常用的显色剂，属于光致开环化合物。这类光致变色高分子中最为典型的是由对（甲基丙烯酞胺基）苯基汞二硫膝络合物与苯乙烯、甲基丙烯酸甲酯、丙烯酸丁酯和丙烯酞胺等共聚而制得的光致变色高分子。其共聚物薄膜经日光照射由桔红色变为暗棕色或紫色。 这类高分子的光致变色性能是偶氮苯的顺反异构引起的， 在光作用下， 偶氮苯从反式转为顺式，顺式是不稳定的， 在暗条件下， 回复到稳定的反式。 由2个芳杂环( 其中1个含有吡喃环) 通过sp3杂化的螺碳原子连接而成的一类化合物的通称 。 大多数螺吡喃的吸收发生在紫外光谱区，一般在200~400 nm范围内，不呈现颜色。在受到紫外光激发后，分子中C—O键发生异裂，继而分子构型和电子排布发生很大的变化，2 个环系由正交变为共平面，整个分子形成一个大的共轭体系，吸收也随着发生很大的红移，出现在 500-600nm范围内，因此呈现颜色。 ② 含螺苯并吡喃结构的聚肽； ③ 主链中含有螺苯并吡喃结构的缩聚高分子。 4. 氧化还原型光致变色聚合物 当高分子材料在光的作用下能发生可逆氧化还原反应，且不同氧化态的吸收光谱明显不同，则构成光致氧化还原型变色材料。 这一类光致变色聚合物主要包括含有联吡啶盐结构、硫堇（jǐn）结构和噻嗪结构的高分子衍生物。 ① 含硫堇结构的聚丙烯甲酰胺氧化还原型光致变色聚合物； ② 含噻嗪结构的聚丙烯甲酰胺氧化还原型光致变色聚合物。 模拟复印机成像-充电曝光 模拟复印机成像-显影 模拟复印机成像-定影 模拟复印机成像-清洁 模拟复印机成像-消电
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